Details

Feldmann, Eva
Patent- und Gebrauchsmusterverletzung
Hagener Wissenschaftsverlag
978-3-7321-0573-1
7. Aufl. 2022 / 117 S.
Lehrbuch

18,95 €

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Kurzbeschreibung

Reihe: Schriftenreihe der Hagen Law School - Gewerblicher Rechtsschutz

Patente und Gebrauchsmuster dienen dem Schutz technischer Erfindungen, indem sie deren Benutzung zunächst dem Schutzrechtsinhaber vorbehalten. Wie aber wirkt dieser Schutz im Einzelnen? Wie kann man das Patent benutzen? Unter welchen Voraussetzungen wird es verletzt und wann kann ein Rechtsinhaber eine Benutzungs­handlung verbieten? Diese Fragen beantwortet das vorliegende Buch unter Rücksicht auf Theorie und Praxis mit vielen anschaulichen Beispielen und Hinweisen für die Rechtsdurchsetzung.

Dieses Werk dient der Ausbildung von Fachanwälten an der Hagen Law School. Es ist Teil einer bewährten Reihe, die sich nicht nur an Experten richtet, sondern auch an Leser mit juristischer Vorbildung und besonders praxisorientiertem Interesse. Themen und Texte sind nach den Anforderungen der FAO konzipiert und stammen von erfahrenen Praktikern und Rechtswissenschaftlern. Alle Publikationen der Hagen Law School unterliegen einem Peer-Review-System.